2026年开春，一则重磅消息在日本产业界炸响惊雷：作为日本制造业骄傲的百年光学巨头尼康，预告2025财年将亏损850亿日元，创下公司历史上最大亏损纪录。这个刺眼的数字，再次击碎了日本精密制造不可撼动的神话，也揭开了这家昔日光刻机霸主的惨淡困局。

面对巨额亏损，尼康官方将核心原因归咎于3D打印机业务的拖累，但外界的目光却一致锁定在另一个更令人揪心的数字上：过去半年，尼康光刻机仅卖出9台，且几乎全是技术门槛较低的成熟制程设备。

而地球另一端，荷兰ASML同期交出的答卷堪称碾压：仅高端EUV（极紫外光）光刻机就狂卖20多台，单台售价高达1.2亿欧元，总出货量更是飙升至160台。9对160，这早已不是简单的市场差距，而是一场时代的挽歌，一记宣告日本光刻机时代落幕的丧钟。

在东京尼康总部的会议室里，空气凝固得让人窒息。会长马立稔和一脸憔悴，作为公司内部最懂光刻机技术的高管，他曾亲眼见证尼康的黄金年代，也正因如此，眼前的惨淡景象才更让他痛彻心扉——从全球霸主到亏损巨鳄，尼康的坠落，藏着一段关于傲慢、封闭与错失机遇的悲壮往事。

沸腾年代：全球光刻机的绝对霸主

时钟拨回1980年代，那是尼康的巅峰时刻，也是日本精密制造的黄金年代。彼时的尼康，在两大核心领域同时登顶全球：专业相机市场家喻户晓，半导体光刻机领域更是独步天下，代表着当时全球光学制造的最高水平。

光刻机被誉为半导体工业的“心脏”，而尼康的光刻机，便是这颗心脏中最强劲的跳动。曾有媒体形容其精度之高，堪比在富士山顶精准命中东京街头的一枚缝衣针，甚至有人断言：“没有尼康，就没有现代半导体工业。”

那是一个尼康呼风唤雨的时代。从英特尔、IBM到德州仪器，全球顶尖芯片巨头为求得一台尼康光刻机，不惜放下身段：成立专属对接团队，常驻尼康硅谷分部，只为争取优先供货权；坊间更流传着半导体老板亲赴尼康工厂蹲点，预付全款只为换取一个设备调试名额的佳话。

彼时的尼康，垄断了全球光刻机市场的半壁江山，地位如同今天的ASML，是不可撼动的行业霸主。在它的强势挤压下，美国光刻机鼻祖GCA被迫宣告破产，而如今的行业巨头ASML，当时不过是在夹缝中艰难求生的小玩家，毫无话语权可言。

当年还是一名普通工程师的马立稔和，亲眼见证了尼康的登峰造极。那时的他或许不会想到，30年后自己会成为尼康的掌舵人，更不会想到，自己接手的，会是一个濒临崩塌的烂摊子。

命运转折：一次傲慢的拒绝，错失时代捷径

尼康的衰落，并非一蹴而就，而是从一次关键的技术路线选择失误开始的。这个转折点，发生在2002年，一个名叫林本坚的天才科学家，敲响了尼康的大门。

彼时，全球光刻机行业正陷入瓶颈：193nm干式光刻机的技术极限难以突破，下一代光源研发陷入停滞，整个行业都在寻找破局之路。时任台积电资深处长的林本坚，提出了一个颠覆性的设想：在镜头与晶圆之间注入水，借助水的高折射率，一举突破当时被视为天堑的光源极限——这就是后来改变行业格局的浸没式光刻机路线。

这本来是一条成本更低、效果更好的破局捷径，却遭到了尼康所有高管的一致反对。从会长吉田庄一郎到当时的光刻机技术带头人马立稔和，甚至没有人愿意耐心听完林本坚的完整解释。在他们看来，尼康的光学镜头是全球最精密的仪器，将价值不菲的透镜泡在水里，简直是对光学工程的亵渎。

尼康的代表当场质问林本坚：“如果水污染了镜头，你们台积电赔得起吗？如果气泡导致批量报废，这个责任谁担？”更核心的原因是，当时尼康已经在157nm干式光刻机上投入了7亿多美金，若转而投入浸没式路线，之前的巨额投入将全部打水漂，这是吉田庄一郎们绝对无法接受的。

尼康不仅断然拒绝了林本坚，甚至试图利用自己在行业内的威望封杀这个“离经叛道”的构想。据林本坚后来回忆，尼康高层曾在他拜访后，给时任台积电研发副总蒋尚义打去投诉电话，大意是：“请管好你们的林本坚，不要让他到处推销这种破坏行业共识（157nm路径）的构想，这会让大家分心并浪费资源。”

被尼康拒绝后，林本坚没有放弃，他转身飞往了荷兰，见到了ASML的技术灵魂——马丁·范登布林克，一个有着典型欧洲人冒险基因的工程师。彼时的ASML尚在夹缝中求生，急需一个破局机会，林本坚的设想让范登布林克欣喜若狂。

随后，范登布林克力排众议，将ASML所有资源全部押注在浸没式技术上，联合台积电全力攻关。2004年，ASML的浸没式光刻机正式问世，一经推出便横扫全球市场。尼康引以为傲的顶级镜头，在新的技术路线面前瞬间失色，其高端光刻机市场的半壁江山，也随之彻底失守。这一次傲慢的拒绝，成为尼康衰落的开端，也为ASML的崛起铺平了道路。

致命豪赌：闭门造车的EUV，压垮巨头的最后一根稻草

如果说错失浸没式技术是尼康的重创，那么在EUV领域的盲目豪赌，则是压垮它的最后一根稻草。

面对浸没式光刻机的失利，尼康并未反思自身的傲慢与封闭，而是将希望寄托在下一代技术——EUV（极紫外光）上。EUV波长更短，能够在芯片上雕刻更小的电路，是当时公认的下一代光刻机核心技术方向。

此时的马立稔和，已从普通工程师成长为光刻机技术负责人，在他的眼中，依然是那个尼康称霸全球的巅峰时代。他在尼康内部启动了EUV预研，亲自担任原型机技术掌舵人，并立下雄心壮志：EUV技术要全自研、全日本产，试图在封闭的体系内，复刻日本精密制造征服世界的奇迹。

彼时的日本政府，早已失去了芯片产业的霸主地位，不愿再失去光刻机这一核心领域，将EUV研发视为“国运之战”，给予了尼康海量支持。以经济产业省（METI）为主导，日本构建了庞大的“产官学”联盟，投入数百亿日元资金，集结东京大学、京都大学、筑波大学等顶尖院校的光学与材料专家，联合佳能、东京电子、信越化学等本土上下游企业，全力协助尼康攻关EUV技术——这是一次典型的日本式冲锋：资源集中，目标单一，却也暗藏着封闭的隐患。

2012年，马立稔和升任尼康常务执行董事，全面接管EUV项目，这场研发战役进一步升级。他手握重兵，试图用金钱、意志以及日本上下的“必胜决心”，砸开EUV的大门。但他没有意识到，此时的世界，早已不是那个可以闭门造车的时代。

就在马立稔和全面接管EUV项目的同一年，ASML正在编织一张全球化的合作网络：它接到了英特尔、三星、台积电的首次大规模战略投资，组建了自己的EUV联盟，不仅将三大全球顶级芯片厂商捆绑为核心客户，还集结了全球最强的产业链资源——德国蔡司的镜头、美国Cymer的光源，都是这个联盟的核心成员，实现了10万零件的精密协同研发与生产。

更致命的是，曾经在芯片产业上吃过日本大亏的美国，以国家安全为由，将尼康、佳能等日系厂商排除在EUV技术联盟之外，彻底切断了尼康获取美国顶尖光源技术的通道。日本政府对此束手无策，马立稔和引以为傲的“全自研、全日本产”，最终变成了彻底的闭门造车。

截至2018年，尼康在EUV项目上的投资已超千亿日元，堪称公司历史上最大的单笔技术押注，但这笔巨额投入，换来的只是一台无法商用的原型机——其良品率不足30%，能耗与精度远逊于ASML的量产机型。而此时，ASML的EUV光刻机早已在台积电的产线上疯狂迭代，成为全球高端芯片制造的核心设备。

最终，马立稔和不得不忍痛宣布：终止EUV光刻机的商业化开发。这一决定，宣告了尼康在高端光刻机领域的彻底溃败，也让这家昔日巨头陷入了前所未有的绝境。

困局落幕：夹缝喘息，日本光刻机时代终结

EUV项目的终止，让尼康彻底陷入两难：前方，ASML早已绝尘而去，垄断了全球高端EUV光刻机市场，市占率达到100%；后方，中国光刻机势力正以雷霆之势崛起，不断蚕食尼康赖以生存的中低端成熟制程设备市场。昔日的行业霸主，如今只能在夹缝中艰难喘息，9台对160台的出货量差距，正是这种困局最真实的写照